Chilena hace historia al ser la primera mujer latinoamericana en recibir prestigioso premio a la innovación científica en EEUU
La doctora Tania Sandoval egresó de la carrera de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María, en Chile.
La doctora Tania Sandoval, del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María (USM), en Chile, fue distinguida por la American Vacuum Society (AVS) con el ‘Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award’. Con este logro, se convirtió en la primera mujer y la primera latinoamericana en recibir este premio internacional, entregado durante el simposio anual de la entidad, que se realizó en Charlotte, Carolina del Norte, Estados Unidos.
Este reconocimiento celebra la destacada trayectoria de jóvenes investigadores que han completado su doctorado en un plazo máximo de siete años y que han contribuido al desarrollo de la ciencia y la tecnología en el área de películas delgadas y superficies.
Tania Sandoval recibe premio de la American Vacuum Society
Sandoval fue reconocida por su aporte al estudio de la deposición selectiva de materiales, un campo clave para la industria de la nanoelectrónica, la óptica y la ingeniería de materiales avanzados.
El evento reunió a destacados científicos, representantes de la industria y miembros de diversas divisiones técnicas de la organización, provenientes de múltiples países, incluida América Latina.
“Me siento muy honrada de haber recibido este premio, porque la división de Thin Film, de la cual formo parte, está integrada por investigadores de gran nivel. Este reconocimiento valora el trabajo que desarrollamos en el laboratorio Nanolab junto a mi equipo”, expresó la científica.
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¿Qué es la American Vacuum Society?
La AVS es una organización científica internacional con sede en Estados Unidos, dedicada a promover el intercambio de conocimientos entre académicos, investigadores del sector industrial y representantes del ámbito público.
Fundada hace más de seis décadas, la AVS cuenta actualmente con más de 4.500 miembros en todo el mundo, organizados en divisiones técnicas que abarcan áreas como nanotecnología, ciencia de superficies, procesamiento de materiales y física aplicada.